5
等離子清洗機表面改性原理:等離子體作為物質的(除固態、液態、氣態之外)第四種狀態,是氣體部分或*電離產生的非凝聚體系,一般都包含自由電子、離子、自由基和中性粒子等、體系內正負電荷數量相等,宏觀上呈電中性。在材料表面改性中,主要是利用低溫等離子體轟擊材料表面,是材料表面分子的化學鍵被打開,并與等離子體中的自由基結合,在材料表面形成極性基團,這首先需要低溫等離子體中的各類離子具有足夠的能量以斷開材料表面的舊化學鍵。除離子外,低溫等離子體中絕大多數粒子的能量均高于這些化學鍵的鍵能。...
查看更多29
等離子清洗機對粉體的處理包括3大方面:提升粉體顆粒的親水性、輔助氣相沉積、提升粉體顆粒接枝聚合的能力。粉體提升親水性使用等離子處理,其主要過程是用如He、Ar等和反應性氣體如O2、CO2、NH3等對粉體的顆粒表面進行物理或者化學反應的過程。在處理的過程中,等離子體中間的粒子會和顆粒表面產生作用,對粉體顆粒產生刻蝕或者降解,在顆粒表面形成活性基團,提升粉體顆粒表面的親水性氣相沉積的過程有點類似于電鍍,只不過電鍍是用水,而氣相沉積用的是氣相沉積。很多顆粒直接采用氣相沉積效果不理想...
查看更多21
隨著半導體技術的不斷發展,對工藝技術的要求越來越高,特別是對半導體圓片的表面質量要求越來越嚴,其主要原因是圓片表面的顆粒和金屬雜質沾污會嚴重影響器件的質量和成品率,在目前的集成電路生產中,由于圓片表面沾污問題,仍有50%以上的材料被損失掉。在半導體生產工藝中,幾乎每道工序中都需要進行清洗,圓片清洗質量的好壞對器件性能有嚴重的影響。正是由于圓片清洗是半導體制造工藝中重要、頻繁的工步,而且其工藝質量將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性,所以國內外各大公司、研究機構等對清洗工藝的...
查看更多17
高分子材料同金屬材料相比具有許多優點,如密度小、比強度和比模量低、耐蝕性能好、成型工藝簡單、成本低廉、優異的化學穩定性、熱穩定性好、介電性能、極低的摩擦系數、良好的潤滑作用及優異的耐候性等,因此廣泛應用于包裝、印刷、農業、輕工、電子、儀表、航天航空、醫用器械、復合材料等行業。但其應用范圍和使用效益往往會受到表面性能的制約,因此常常需按使用目的改善或變換其表面性能,如材料或部件的粘著性,高分子膜的印刷性、透過性等,這時候就需要使用等離子清洗機了。為了使高分子材料適合各種應用需要...
查看更多15
靜脈采血是臨床上常見的護理操作之一,不知道大家是不是曾經這么做過:在采集多管血標本時,止血帶扎上之后,不等到后一管時不松開。當采血不暢時,一直讓患者反復的松拳、握拳。當遇到比較難穿刺的靜脈時,在消毒后用手觸摸引導進針。.......以上這些都屬于不規范的操作,會影響靜脈采血結果哦,今天就跟著小護一起來看看靜脈采血的注意事項吧~01.采血前護士要了解患者檢測的項目及目的,根據檢測項目針對性的對患者進行宣教,而不是只要有抽血項目都要求患者空腹。做好患者宣教很重要:1、告知患者不用...
查看更多11
今天我給大家講講等離子清洗機在手機行業中的應用:1、手機蓋板:手機蓋板生產中,手機蓋板需要進行鍍膜,鍍膜前為了鍍膜附著力高,需要進行等離子清洗,從而明顯提高蓋板表面活性,鍍膜壽命明顯提高。2、顯示屏/AMOLED屏:顯示屏/AMOLED屏在貼合,粘接工藝前需要進行表面清潔改性。以去除玻璃上的一些金屬顆?;蛘咂渌廴疚铮趯σ壕РAнM行的等離子清洗中,使用的活化氣體是氧的等離子體,它能無污染高效去除油性污垢和有機污染物粒子。3、ITO玻璃/手機玻璃后蓋:制造清潔工藝中,舊工藝需...
查看更多8
等離子清洗機在清洗物體前首先要對清洗的物體和污物進行分析,然后進行氣體的選配。依據等離子的作用原理可將選配氣體分為兩類,一類是氫氣和氧氣等反應性氣體,其中氫氣主要應用于清洗金屬表面的氧化物,發生還原反應。清洗機通氧氣主要應用于清洗物體表面的有機物,發生氧化反應。另一類是等離子清洗機通氬氣、氦氣和氮氣等非反應性氣體,氮等離子處理能提高材料的硬度和耐磨性。氬氣和氦氣性質穩定,并且放電電壓低(氬原子的電離能E為15.57eV)易形成亞穩態的原子。一方面等離子清洗機利用其高能粒子的物...
查看更多7
抽真空速度是決定一臺真空等離子清洗機的工作效率的重要因素之一,抽真空速度的快慢主要是取決于真空泵。當所需處理產品的尺寸較大,必須使用大腔體(80L以上)的真空等離子清洗機時,如果只使用一臺真空泵的話,抽真空速度會比較慢,抽真空所需的時間會很長。因此,大腔體的真空等離子清洗機我們通常會配備真空泵組來提升抽真空的速度。今天我們就來介紹一下等離子清洗機上所用到的幾類真空泵組以及在選擇真空泵組時的注意點。真空泵組是將2臺或2臺以上的真空泵組合在一起,形成一個串聯的結構,能夠大大加快抽...
查看更多Copyright © 2025 嘉潤萬豐(北京)科技有限公司版權所有 備案號:京ICP備13049909號-2
技術支持:化工儀器網 管理登錄 sitemap.xml